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半導(dǎo)體設(shè)備廠進(jìn)入碳化硅襯底賽道

分類:半導(dǎo)體 碳化物 行業(yè)資訊 688 0

摘要:

上機(jī)數(shù)控“轉(zhuǎn)戰(zhàn)”材料成功試制6吋SiC

11月6日,上機(jī)數(shù)控發(fā)布消息稱,他們成功試制出6英寸碳化硅襯底,有效厚度達(dá)到20毫米,經(jīng)加工后襯底片的微管、位錯等各項指標(biāo)均達(dá)國內(nèi)領(lǐng)先水平。據(jù)了解,今年3月上機(jī)數(shù)控就成立全資子公司弘元半導(dǎo)體,專攻第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域,并已主導(dǎo)了一個碳化硅襯底項目。

晶盛機(jī)電:募資31億建襯底項目,8吋SiC出爐

晶盛機(jī)電成立于2006年,是國內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體材料裝備企業(yè)。2017年,他們開始布局碳化硅業(yè)務(wù),2020年建立了SiC長晶和加工中試線。去年10月,晶盛機(jī)電宣布募資31億元,用于建設(shè)6英寸碳化硅襯底項目。8月,晶盛機(jī)電首顆8英寸N型SiC晶體出爐。晶盛機(jī)電的8英寸SiC晶體的晶坯厚度為25mm,直徑214mm。

GTAT:由生產(chǎn)藍(lán)寶石設(shè)備→生產(chǎn)碳化硅襯底

GTAT原名GT Solar,成立于1994年,曾是一家壟斷光伏和藍(lán)寶石的設(shè)備供應(yīng)商。該公司破產(chǎn)后進(jìn)入SiC賽道,于2013年推出4英寸的SiC長晶爐,主要使用升華法。2017年,GTAT正式宣布開發(fā)出CrystX? SiC晶體。2018年6月,GTAT舉行了SiC襯底工廠剪彩儀式,并宣布量產(chǎn)。最終,GTAT在去年8月被安森美以27億人民幣收購,以推進(jìn)6英寸和8英寸SiC晶體生長技術(shù)。今年8月,安森美擴(kuò)建的GTAT Hudson(哈德遜)的碳化硅工廠開業(yè),碳化硅襯底產(chǎn)能將擴(kuò)充4倍。

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